湖北日报讯（记者张真真、通讯员康鹏、王冰倩）光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破。10月15日，记者从武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）获悉，其推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计。
光刻胶，是芯片制造中一种极为重要的原材料。它是一种感光材料，其应用原理类似于老式相机胶卷曝光。制造芯片时，在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘制好电路图，当光线透过掩膜版照射到光刻胶上发生曝光，经过系列处理后，晶圆上就会得到所需的电路图。目前，我国所使用的光刻胶九成以上依赖进口。
据介绍，相较于国外同系列产品，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120纳米，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。
太紫微公司成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。团队立足于关键光刻胶底层技术研发，在电子化学品领域深耕二十余载。
该公司负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强表示：“以原材料的开发为起点，最终获得具有自主知识产权的配方技术，这只是个开始。团队还会发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，为国内相关产业带来更多惊喜。”
