把光刻胶玩出花，把文学梦写成诗 九峰山的理工男真有“两把刷子”

湖北日报全媒记者 甄子萱 马文俊

8月4日，九峰山实验室的洁净车间里，实验室工艺中心工艺开发团队负责人向诗力身穿无尘服，透过高倍显微镜反复确认晶圆表面的光刻图案。涂胶厚度、曝光剂量、显影时长，每一个参数都容不得丝毫偏差。

夜幕降临，回到家中书桌前，他打开电脑，敲击键盘，开始构建另一个世界。那里有草原，有风，还有关于自由与成长的文学梦想。

先进光刻技术攻坚与文学创作，在向诗力身上并行不悖。一个需要极致理性与精密验证，另一个需要敏感情绪与无边想象，而他让这两条看似平行的河流，在日复一日的热爱中交汇成诗。

九峰山实验室，科研人员在检查芯片晶圆完整度（湖北日报全媒记者 魏铼 摄）

“不走寻常路”的科研攻坚

成熟制程芯片是万千日常设备的“隐形底座”，相机、空调、电磁炉都离不开它。它们不需要先进制程设备，但受光学衍射规律限制，中低端光刻设备单次曝光分辨率极限卡在120纳米，导致芯片做不小、做不集成。

行业历来有两条路，换高端光刻机，或采用多重曝光工艺。前者需要高投入，后者则会拉长周期、降低良率。

“光刻机是画笔，光刻胶就是颜料。”向诗力带着团队蹚出第三条路，不改“画笔”改“颜料”。

向诗力在工位上（湖北日报全媒记者 马文俊 摄）

通过对光刻胶高分子树脂进行特殊修饰改性，他和研发团队让材料在曝光后实现对二维图案的空间调制，配合涂胶、曝光、显影等全流程工艺参数微调，原本只能服务于120纳米制程的设备，现在可将极限分辨率推进至85纳米。

原理简单，落地却花了一年半。光刻胶配方、转速、剂量、时长，每个参数差之毫厘，结果谬以千里。没有现成路径，全靠向诗力带队反复试错。

这种“不走寻常路”的解法，与向诗力自身经历密切相关。2016年，他保送华中科技大学直博，本科物理的他误入光化学领域，主攻高分子光刻胶。从物理跨界化学，基础薄弱，无异于半路出家。但他凭借物理视角，看光刻胶不仅是化学组成，更是光与物质相互作用的物理机制，这个交叉思维日后成为关键优势。

然而科研并非坦途。2018年，同届同学陆续发表成果，他的课题却陷入漫长瓶颈。实验反复失败，数据毫无进展，压力层层累积。

那段时间，写小说成了他的精神出口。“写小说不用跟任何人打交道，自己造一个世界，自己说了算。”

半年时间，修改20多版，他完成18万字的《牧羊的风》并在文学网站豆瓣阅读上发布，至今已收获超万名读者。

文学没有直接帮他解决科研问题，却给了他面对失败的耐心。谈起写小说和做光刻的关系，向诗力说，两者都是在有限条件下从无到有搭建世界，都要耐得住寂寞，都得一点点打磨。小说完成后，他重整旗鼓，再次扎进实验室，逐一排查参数、破解问题。

2021年，凭借4篇一区论文及4项专利取得博士学位，他却拒绝了导师推荐的赴日本、德国深造机会。“实验室里的成果离老百姓太远，我想做能落地、能真正用的东西。”

文学热爱成了科研路上的铠甲

2022年7月，向诗力来到九峰山实验室。彼时实验室起步不久，没有现成产线标准，没有固化流程，一切从零搭建。但吸引他的恰是这种“不成熟”，能下一线、碰设备，亲手参与平台从0到1的成长。

这份执念很快开花结果。2024年，团队研发出性能优异的高端光刻胶系列，在不更换核心设备的前提下，将单次曝光的物理分辨率极限大幅提升。

这套用材料补硬件短板的逻辑，随后在更前沿的领域得到验证。此前在该领域，实验室合作方严重依赖进口电子束光刻设备，效率低、难量产。团队自研开发超分辨光刻技术，在8英寸产线上，实现了百纳米级以下制程产品的量产制造，良率表现也相当出色。

凭借这项突破，他作为核心完成人获得2025年度湖北省科技进步二等奖。

向诗力创作的小说《牧羊的风》（湖北日报全媒记者 马文俊 摄）

如他一般的高层次半导体领域人才，许多都将目光投向了聚焦产业前沿应用的九峰山实验室。截至目前，这里已吸引500余名海内外顶尖科研人员、工程师加入，他们有的来自比利时、法国、日本、新加坡、香港等海内外知名高校及科研院所，有的更在行业中深耕多年，产出国内首次异质集成“芯片出光”、8英寸原子层沉积金属钼工艺等众多突破性成果。

今年4月，向诗力获评光谷3551创新人才。入职近五年，他对光谷的变化感受更为直观：多个集团总部拔地而起，芯片设计、材料、设备企业沿高新大道排开，半导体产业链“抱团”发展迅速。“以前客户在电话那头，现在很可能就在马路对面，约个时间就能当面聊清楚。”

光谷给这位“非典型科研工作者”留足了自由生长空间。虽然工作繁忙，向诗力写作的念头从未断过。

工作间隙，他会随手记下脑中闪过的灵感，手机里存着上百条文字碎片，有的长、有的短，有的只有一个意象。不过等哪天攒够了，他说不定会再次打开电脑，写出《牧羊的风》续篇。